DE102006043548A1 - Optical arrangement for use in projection exposure apparatus used for immersion lithography has hydrophobic coating comprising ultraviolet (UV) resistant layer that absorbs and reflects UV radiation at predetermined wavelength - Google Patents
Optical arrangement for use in projection exposure apparatus used for immersion lithography has hydrophobic coating comprising ultraviolet (UV) resistant layer that absorbs and reflects UV radiation at predetermined wavelength Download PDFInfo
- Publication number
- DE102006043548A1 DE102006043548A1 DE200610043548 DE102006043548A DE102006043548A1 DE 102006043548 A1 DE102006043548 A1 DE 102006043548A1 DE 200610043548 DE200610043548 DE 200610043548 DE 102006043548 A DE102006043548 A DE 102006043548A DE 102006043548 A1 DE102006043548 A1 DE 102006043548A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- measuring device
- hydrophobic coating
- metal layer
- immersion liquid
- objective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70341—Details of immersion lithography aspects, e.g. exposure media or control of immersion liquid supply
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft eine optische Messvorrichtung zur Bestimmung der optischen Eigenschaften eines Objektives, insbesondere eines Objektives in einem Immersionssystem der Halbleiterlithographie, wobei zwischen einer Messeinrichtung und dem zu messenden Objektiv eine Immersionsflüssigkeit angeordnet ist, und wobei im Bereich der Immersionsflüssigkeit ein Bauelement angeordnet ist, das mit einer hydrophoben Beschichtung zur Erzeugung einer im wesentlichen meniskusförmigen Wassersäule versehen ist.The The invention relates to an optical measuring device for determination the optical properties of an objective, in particular a Objective in an immersion system of semiconductor lithography, between a measuring device and the objective to be measured an immersion liquid is arranged, and wherein in the field of immersion liquid a component is arranged, which has a hydrophobic coating provided for generating a substantially meniscus-shaped water column is.
Objektive werden häufig in einer interferometrischen Messtechnik bezüglich ihrer optischen Eigenschaften, wie z. B. der Genauigkeit bezüglich ihrer optischen Abbildung und evtl. Abbildungsfehler, vor ihrem Einsatz gemessen. Hierzu wird das Objektiv über einer entsprechenden Messeinrichtung angeordnet. Handelt es sich bei dem zu vermessenden Objektiv um ein Objektiv, das in einem Immersionssystem eingesetzt wird, wie z. B. einem Objektiv in der Halbleiterlithographie, das mit einem Laser durchstrahlt wird, der z. B. UV-Licht von 193 nm aussendet, so befindet sich zwischen dem zu messenden Objektiv und der Messvorrichtung mit der Messeinrichtung eine Immersionsflüssigkeit, um die Messungen unter Praxisbedingungen durchführen zu können. Als Immersionsflüssigkeit wird zumeist Reinstwasser verwendet, das durch einen Ring um die optischen Bauteile an einem Abfließen gehindert wird. Dieser Ring muss eine hydrophobe Oberfläche besitzen, um einen konvexen und damit nach oben gewölbten Wassermeniskus zu erzeugen. Es muss nämlich sicher gewährleistet sein, dass stets ein einwandfreier Kontakt zu dem letzten optischen Bauteil des Objektives, das zur Messvorrichtung gerichtet ist, gewährleistet ist.lenses become common in an interferometric measuring technique with regard to their optical properties, such as B. accuracy with respect her optical image and possibly aberrations, before her Use measured. For this purpose, the lens is above a corresponding measuring device arranged. Is it the lens to be measured? a lens that is used in an immersion system, such as z. As an objective in semiconductor lithography, with a Laser is irradiated, the z. B. UV light of 193 nm, so is located between the lens to be measured and the measuring device with the measuring device an immersion liquid to the measurements under practice conditions to be able to. As immersion liquid Mostly ultrapure water is used, which through a ring around the optical components is prevented from draining. This Ring must have a hydrophobic surface, to create a convex and thus upwardly curved water meniscus. It has to be safely guaranteed be that always a perfect contact with the last optical Component of the lens, which is directed to the measuring device, guaranteed is.
In der Praxis hat sich nun herausgestellt, dass sich die bisher verwendeten Materialien für den Ring mit der hydrophoben Oberfläche bereits nach kurzer Zeit bezüglich ihrer Oberflä cheneigenschaften dahingehend geändert haben, dass mit zunehmender Bestrahlungsdauer die hydrophobe Eigenschaft abgenommen hatte. Dies betrifft insbesondere Durchstrahlungen mit den immer kurzwelliger zum Einsatz kommenden Lasern, wie z. B. bei 193 nm und kürzer. Dies bedeutete, bereits nach einer kurzen Betriebszeit ließ sich kein stabiler konvexer Wassermeniskus mehr aufbauen, wodurch die Immersionssäule zwischen dem Objektiv und der Messvorrichtung abriss und die Messung unterbrochen werden musste.In Practice has now been found that the previously used Materials for the ring with the hydrophobic surface after a short time in terms of their surface properties to that effect changed have the hydrophobic property decreased with increasing irradiation time would have. This concerns in particular radiographs with the always short-wavelength lasers used, such as. At 193 nm and shorter. This meant that after only a short period of operation, no one could be left stable convex water meniscus build more, causing the immersion column between demolished the lens and the measuring device and the measurement is interrupted had to become.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zu Grunde, eine Messvorrichtung der eingangs erwähnten Art derart zu verbessern, dass sie auch bei einem Einsatz unter intensiver Bestrahlung eine längere Standzeit besitzt.Of the The present invention is therefore based on the object, a measuring device the aforementioned To improve such a way that they also under use under intensive irradiation a longer one Lifetime has.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass die Beschichtung eine Edelmetallschicht aufweist.According to the invention this Task solved by the coating has a noble metal layer.
Nach langwierigen Versuchen hat sich herausgestellt, dass eine Edelmetallschicht, wie z. B. Gold, Iridium Palladium, Platin, Quecksilber, Osmium, Rhenium, Rhodium, Ruthenium, Silber, Kobalt, Kupfer oder Legierungen daraus ihre hydrophobe Oberflächeneigenschaft auch nach einer längeren und intensiven Durchstrahlung beibehält.To lengthy trials, it has been found that a noble metal layer, such as Gold, iridium palladium, platinum, mercury, osmium, Rhenium, rhodium, ruthenium, silver, cobalt, copper or alloys from this their hydrophobic surface property even after a longer and longer maintains intensive radiation.
Eine zweite Lösung für eine hydrophobe Beschichtung, die ebenfalls sehr beständig ist, besteht in der Verwendung einer Metallschicht der dritten bis siebten Gruppe im Periodensystem. der chemischen Elemente, wie z. B. Chrom, Molybdän, Wolfram, Vanadium, Niob, Tantal, Titan, Zirkonium, Hafnium, Skandium, Yttrium, Mangan, Thallium oder Legierungen daraus.A second solution for one hydrophobic coating, which is also very resistant, is in use a metal layer of the third to seventh group in the periodic table. the chemical elements, such as. Chromium, molybdenum, tungsten, vanadium, niobium, Tantalum, Titanium, Zirconium, Hafnium, Scandium, Yttrium, Manganese, Thallium or alloys thereof.
Bei Verwendung der erfindungsgemäßen Edelmetall- oder Metallschicht hat sich herausgestellt, dass auch keine Kontamination der Immersionsflüssigkeit durch aus der Beschichtung unter den beschriebenen erschwerten Bedingungen aufgrund einer kurzwelligen Laserbestrahlung austretende Substanzen auftritt.at Use of the precious metal invention or metal layer has been found that also no contamination the immersion liquid through from the coating under the described difficult conditions due to a short-wave laser irradiation emerging substances occurs.
In der Praxis hat sich eine Beschichtung aus Chromoxyd, auch Schwarzchrom genannt, als besonders geeignet herausgestellt.In The practice has a coating of chromium oxide, also black chrome called, proved to be particularly suitable.
Die Edelmetall- oder Metallschicht der dritten bis siebten Gruppe im Periodensystem der chemischen Elemente kann auf verschiedene Weise auf das zu beschichtende Bauelement aufgebracht werden.The Precious metal or metal layer of the third to seventh group in Periodic table of chemical elements can be done in different ways be applied to the device to be coated.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung wird die Beschichtung durch Sputtern aufgebracht.In In an advantageous embodiment, the coating is by sputtering applied.
Sputtern, auch Kathodenzerstäubung genannt, ist ein Verfahren zur Schichtabscheidung, mit welchem eine hohe Qualität der aufzubringenden Schicht in einer sehr geringen Schichtdicke erreicht werden kann.sputtering, also sputtering is a process for layer deposition, with which a high quality the applied layer in a very small layer thickness can be achieved.
Als vorteilhafte Schichtdicken haben sich Werte zwischen 10 und 200 nm, vorzugsweise zwischen 15 und 100 nm herausgestellt.When advantageous layer thicknesses have values between 10 and 200 nm, preferably between 15 and 100 nm.
Als Immersionsflüssigkeit zwischen dem Objektiv und der Messvorrichtung wird im Allgemeinen Wasser, insbesondere Reinstwasser, verwendet. Anstelle von Wasser sind jedoch auch andere Immersionsflüssigkeiten, wie z. B. Öle möglich.When Immersion liquid between the lens and the measuring device is generally water, especially ultrapure water, used. However, instead of water are also other immersion liquids, such as For example, oils possible.
Das Bauelement selbst, das mit der hydrophoben Beschichtung versehen wird, besteht in vorteilhafter Weise aus Edelmetall. Selbstverständlich sind hierfür jedoch auch andere Materialien möglich.The Component itself, which provided with the hydrophobic coating is, advantageously consists of precious metal. Of course they are therefor However, other materials possible.
Wenn das zu vermessende Objektiv z. B. ein Objektiv ist, das bereits im Einsatz ist, wobei unter dem Objektiv ein Wafer angeordnet ist, kann das zu beschichtende Bauelement auch aus Zerodur, Quarz oder einem ähnlichen Material bestehen, das in einer Projektionsbelichtungsanlage eingesetzt ist.If the lens to be measured z. B. is a lens that already is in use, wherein a wafer is arranged under the lens, The component to be coated can also be made of Zerodur, quartz or a similar one Material used in a projection exposure system is.
Auch im Betrieb eines derartigen Objektives sind mitunter noch Energiemessungen, Transmissionsmessungen und dergleichen durchzuführen, weshalb um den Wafer herum verschiedene Messapparaturen angebracht sind. Auch dabei ist es erforderlich, dass ein inniger Flüssigkeitskontakt zwischen dem letzten optischen Element des Objektives und der Messapparatur vorhanden ist. Aus diesem Grunde ist hier ebenfalls ein Bauelement vorzusehen, das sicherstellt, dass sich ein konvexer Wassermeniskus bildet, der auch bei einer intensiven Durchstrahlung unter Praxisbedingungen erhalten bleibt.Also in the operation of such a lens are sometimes still energy measurements, To carry out transmission measurements and the like, which is why around the wafer Various measuring apparatuses are mounted around. Also there is It requires that an intimate fluid contact between the Last optical element of the lens and the measuring apparatus available is. For this reason, a component is also to be provided here, that ensures that a convex water meniscus forms, even with intensive radiation under practical conditions preserved.
Nachfolgend ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung anhand der Zeichnung prinzipmäßig beschrieben.following is an embodiment the invention described in principle with reference to the drawing.
Über einer
Messvorrichtung mit einer Messeinrichtung
In
bzw. auf der Messeinrichtung befindet sich ein Gitter
Die Messung des Objektives kann z. B. als diskontinuierliche Messung vorgenommen werden, wobei Immersionsflüssigkeit in den Zwischenraum eingebracht wird. Nach Ausbildung der Meniskussäule bleibt diese entsprechend für Stunden stabil und es können die erforderlichen Messungen durchgeführt werden. Bei Verwendung von Reinstwasser wird vorzugsweise unter Atmosphärendruck bei einer Wassertemperatur von 20° operiert.The Measurement of the lens can z. B. as a discontinuous measurement be made with immersion liquid introduced into the space becomes. After formation of the meniscus column this remains corresponding for hours stable and it can the required measurements are made. Using of ultrapure water is preferably under atmospheric pressure at a water temperature operated by 20 °.
Es ist jedoch auch möglich, anstelle einem diskontinuierlichen Verfahren kontinuierlich Wasser in einem Fluss von z. B. wenigen mm/min durch den Zwischenraum zu pumpen. Auch in diesem Falle wird eine stabile Meniskussäule erzeugt.It but it is also possible instead of a discontinuous process, continuously add water in a flow of z. B. pumping a few mm / min through the gap. Also in this case, a stable meniscus column is produced.
Im
Allgemeinen liegt ein Arbeitsabstand von ca. 2 bis 4 mm, vorzugsweise
3 mm zu der Messeinrichtung
Anstelle
einer hydrophoben Beschichtung der Innenseite des Ringes als Bauelement
Als
weitere Möglichkeit
ist ein Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage mit der erfindungsgemäßen Messvorrichtung
möglich.
In diesem Falle wird der Zwischenraum zwischen dem letzten optischen
Element des Projektionsobjektives in einer Projektionsbelichtungsanlage
und einer entsprechenden Messapparatur mit der Immersionsflüssigkeit
gefüllt
und mit dem vorstehend beschriebenen Bauelement
Claims (11)
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200610043548 DE102006043548B4 (en) | 2006-09-12 | 2006-09-12 | Optical measuring device |
EP07818120.3A EP2062098B1 (en) | 2006-09-12 | 2007-09-12 | Optical arrangement for immersion lithography |
CN2012100327279A CN102540766A (en) | 2006-09-12 | 2007-09-12 | Optical arrangement for immersion lithography with a hydrophobic coating and projection exposure apparatus comprising the same |
JP2009527067A JP5645406B2 (en) | 2006-09-12 | 2007-09-12 | Optical arrangement with hydrophobic coating for immersion lithography and projection exposure apparatus comprising the same |
PCT/EP2007/007932 WO2008031576A1 (en) | 2006-09-12 | 2007-09-12 | Optical arrangement for immersion lithography with a hydrophobic coating and projection exposure apparatus comprising the same |
CN2007800339396A CN101535899B (en) | 2006-09-12 | 2007-09-12 | Optical arrangement for immersion lithography with a hydrophobic coating and projection exposure apparatus comprising the same |
KR1020087030917A KR101240775B1 (en) | 2006-09-12 | 2007-09-12 | Optical arrangement for immersion lithography with a hydrophobic coating, and projection exposure apparatus comprising the same |
US12/403,132 US8279402B2 (en) | 2006-09-12 | 2009-03-12 | Optical arrangement for immersion lithography with a hydrophobic coating, as well as projection exposure apparatus comprising the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE200610043548 DE102006043548B4 (en) | 2006-09-12 | 2006-09-12 | Optical measuring device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102006043548A1 true DE102006043548A1 (en) | 2008-04-17 |
DE102006043548B4 DE102006043548B4 (en) | 2008-06-26 |
Family
ID=39184706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE200610043548 Expired - Fee Related DE102006043548B4 (en) | 2006-09-12 | 2006-09-12 | Optical measuring device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN101535899B (en) |
DE (1) | DE102006043548B4 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9958579B2 (en) * | 2013-09-06 | 2018-05-01 | Corning Incorporated | UV protective coating for lens assemblies having protective layer between light absorber and adhesive |
CN110431485B (en) * | 2017-03-15 | 2021-06-15 | Asml荷兰有限公司 | Sensor marking and method for producing a sensor marking |
CN109487234A (en) * | 2018-12-18 | 2019-03-19 | 湖北大学 | Super oleophobic coating and its preparation method and application |
CN111235562B (en) * | 2020-03-04 | 2022-01-14 | 中国科学院金属研究所 | Method for preparing anti-irradiation tantalum coating by adopting cold spraying |
CN113782061B (en) * | 2021-07-23 | 2022-11-08 | 深圳大学 | Optical information encryption thin layer with wetting response and preparation method thereof |
CN114121383B (en) * | 2021-12-02 | 2022-11-01 | 上海大学 | Flexible electrode and preparation method and application thereof |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4741619A (en) * | 1987-05-05 | 1988-05-03 | Molecular Devices Corporation | Hydrophilic microplates for vertical beam photometry |
DE10047007C2 (en) * | 2000-09-22 | 2002-08-29 | Fraunhofer Ges Forschung | Method for the detection of an analyte in a sample carrier and corresponding device |
DE10261775A1 (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Device for the optical measurement of an imaging system |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG133590A1 (en) * | 2003-08-26 | 2007-07-30 | Nikon Corp | Optical element and exposure device |
-
2006
- 2006-09-12 DE DE200610043548 patent/DE102006043548B4/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-09-12 CN CN2007800339396A patent/CN101535899B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4741619A (en) * | 1987-05-05 | 1988-05-03 | Molecular Devices Corporation | Hydrophilic microplates for vertical beam photometry |
DE10047007C2 (en) * | 2000-09-22 | 2002-08-29 | Fraunhofer Ges Forschung | Method for the detection of an analyte in a sample carrier and corresponding device |
DE10261775A1 (en) * | 2002-12-20 | 2004-07-01 | Carl Zeiss Smt Ag | Device for the optical measurement of an imaging system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102006043548B4 (en) | 2008-06-26 |
CN101535899B (en) | 2012-03-21 |
CN101535899A (en) | 2009-09-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102006043548B4 (en) | Optical measuring device | |
DE60308161T2 (en) | Lithographic apparatus and method for making an article | |
DE202011111072U1 (en) | Device for the spatially resolved introduction of an intensity pattern of electromagnetic radiation into a photosensitive substance | |
DE102011005543A1 (en) | Method of correcting the surface shape of a mirror | |
DE602004007961T2 (en) | Liquid Perfluoropolyether Masking Overcoat | |
DE102004023739A1 (en) | Measuring device and method for operating a measuring device for the optical inspection of an object | |
DE10223113A1 (en) | Photolithographic mask with structure and absorber, for structurization of photosensitive material, e.g. on wafer, has chemically- and mechanically-stable protective coating, preferably applied by atomic layer chemical vapor deposition | |
WO2019233685A1 (en) | Computer-generated hologram (cgh), and method for characterising the surface form of an optical element | |
WO2016087312A1 (en) | Optical element, optical assembly and production method | |
DE102018128418B3 (en) | Use of a dispenser attachment and dispenser attachment for a device for writing 3D structures by means of laser lithography | |
WO2009046960A1 (en) | Apparatus and method for thickness measurement | |
EP1616222B1 (en) | Arrangement for inspecting masks in microlithography | |
EP1471539B1 (en) | Imaging system for microscope based on extreme ultraviolet (EUV) radiation | |
WO2017009185A1 (en) | Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus | |
DE102016213839A1 (en) | Mirror for a microlithographic projection exposure system and method for processing a mirror | |
DE102011079450A1 (en) | Optical arrangement with degradation suppression | |
DE102008043324A1 (en) | Optical arrangement for the three-dimensional structuring of a material layer | |
DE102023201546B3 (en) | Method for decoating an optical surface, device for decoating an optical surface and lithography system | |
DE102007055096A1 (en) | Optical characteristic determining method for illustrating optical system, involves determining image produced on image recording device in each relative position by device, where device is provided opposite to image plane | |
DE102015221674B4 (en) | Projection exposure system with soldered seal | |
DE102013201857A1 (en) | Optical system for performing microlithography process in microlithographic projection exposure system, has absorbent structure that is provided with carbon nanotube coating portion | |
DE102017215995B4 (en) | Method for examining photolithographic masks | |
DE4312812C2 (en) | Method and arrangement for determining the end point of silylation processes of exposed paints for masking | |
DE102020209590A1 (en) | Apparatus and method for polishing an optical element | |
Liberman et al. | Studies of consequences of photo-acid generator leaching in 193nm immersion lithography |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: CARL ZEISS SMT GMBH, 73447 OBERKOCHEN, DE |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |